ASML主流光刻机型号参数汇总

半导体行业综研|Semiconductor industry|

2024-07-15 16:47:04 1144

前一阵子，半导体行业的一个重大消息就是ASML向英特尔出货了 .台 NA值为0.55的EUV光刻机。当时这也多少在圈子里掀起一些波澜，但我当时忙于其它事情，一直没有顾上去整理相关数据

最近两天在准备发布公众号新数据的时候，正考虑还能发啥，便想起了这个茬，于是便打开了ASML的官网...

事实上，ASML在最近一段时间里发布的新机器还不止这一款。在浸入式ArF光刻机领域，ASML也推出了产能更高（WPH 330）的1980Fi.所以我也一并收罗进表格里

顺便说一下，对于最新的两个型号的EUV光刻机，ASML没有在官网上公布具体套刻精度数据，所以这个表格里我暂时只能先空白着了。希望大家理解。不过按照其官网上的说法，最新型号的3800E设备的套刻精度（Overlay）相对之前的旧型号是有较大幅度提高的，而5000型号则没有具体提及，我个人估计应该和3800E差不多
以下表格数据全部来自ASML公司官网公布数据。如果又差异，因该是我个人手动摘录时的错误，请大家原谅。

免责声明：本文采摘自“半导体综研”，本文仅代表作者个人观点，不代表萨科微及行业观点，只为转载与分享，支持保护知识产权，转载请注明原出处及作者，如有侵权请联系我们删除。

上一篇：: 半导体检测量测设备分类表

下一篇：: 日本半导体设备供应商汇总

ASML主流光刻机型号参数汇总

客服QQ2635709730

客服QQ
2635709730