2024-09-19
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光刻机按光源类型可分为五类:I-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机(即ArF浸没式光刻机,与ArF光刻机相比在曝光过程中在投影物镜和晶圆之间放置了一层水膜)、EUV光刻机。按照应用领域可分为IC前道光刻机和IC后道光刻机。其中,IC前道光刻机主要应用于芯片制造,而后道光刻机主要用于芯片封装。 随着IC制程不断向前推进,IC元件将更加复杂,光刻工艺平均所需的曝光层数不断增多,这将驱动光刻机需求的增长。未来从7nm节点开始向下,EUV光刻机将逐渐被应用在关键层曝光,销售量
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